한국, 중국, 일본의 디자인 보호에 대한 인식제고 및 홍보를 위하여 "2017 한중일 디자인 포럼"이 아래와 같이 개최되오니 회원사 여러분들의 많은 참여를 부탁드립니다.
[개요]
○ 일 시 : ‘17. 5. 16(화), 09:30 ~ 16:00
○ 장 소 : 한국과학기술회관 12층, SC컨벤션센터
○ 발표자 : 3국 특허청 담당자, 3국 기업 디자인 지재권 담당자
○ 참석자 : 국내외 디자인 지재권 전문가 및 유관업종 관계자 150여명
○ 주 제 : 캐릭터 디자인의 보호